据市场最新消息，4月6日当天，我国知名半导体设备生产商中微公司（以下简称“中微”）公开宣布，该司生产的离子体刻蚀设备，已应用在国际一线客户从65纳米到5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线和先进封装生产线。

其中，中微旗下备受瞩目的12英寸高端刻蚀设备，已被纳入5nm及以下芯片核心零部件的加工工序中。

都知道，当前全球能生产5nm芯片的代工商仅有台积电、三星两家。中微的表述无疑就是在表明，该司的12英寸高端刻蚀设备已经获得国际最先进的芯片制造商的“盖章认证”。而在去年4月，中微公司就曾透露，该司的高端刻蚀设备拿下了国际客户批量订单。

一家企业的芯片生产，需要涉及成百上千个设备以及零部件的供应。例如，由于美国还不愿对EUV光刻机放松限制，中芯国际7nm及以下工艺芯片生产也无法开展。眼下，中微高端刻蚀设备取得的重大突破，无疑让我国芯片“卡脖子”的难题迎来了一丝曙光。

据了解，在芯片制造的整个流程中，刻蚀设备、光刻设备、薄膜沉积设备是其中最重要的3类设备。其中，刻蚀设备比我们熟知的光刻设备还要值钱，是一家芯片厂最“烧钱”的开销所在，在晶圆制造设备价值量的占比达24%，光刻设备则为23%。

中微的财报数据显示，该司的刻蚀设备在2020年挣得了将近12.9亿元的收入，同比增长约 58.49%。

可以想象，等到中芯国际等制造商的芯片制程发展到5nm工艺之际，起码在刻蚀设备方面也不用担忧面临“断供”的难题了。

文 |廖力思 题 | 凌明 图 |饶建宁 卢文祥 审 |陆烁宜